光伏、半导体行业近年来飞速发展，是一个朝阳行业，然而这也是一个高耗能、高污染、用水量极大的行业，以100MW多晶硅生产线为例，每天用水量在1500吨左右，在所产生的废水中含氢氟废水占废水总量的70%左右，含氢氟废水是刻蚀工序中产生的，一般 PH在2左右，氟离子含量一般在50-800ppm之间，电导在2000-4000us/cm之间。

目前，用于光伏、半导体行业废水处理系统中对含氟废水的典型处理方法为沉淀法，其基本原理为：

Ca2++2F=CaF2↓

如上式，在废水处理过程中需要向废水中投加CaCl2或其他钙盐，使Ca2+与水中的F反应生 成CaF2沉淀，从而使F-从水中去除。该工艺最终能够将排放水中的氟离子的含量控制在 6～10mg/L，以保证达标排放，然而由于源废水本身成分较为单一，但该沉淀法工艺过程中人为引入了大量钙、镁离子等，这不仅大大降低了废水进一步回用出水的品质，降低了废水回用的级别，更为该废水回用增大了难度和风险。

光伏、半导体行业产生的稀氢氟废水，具有pH值低、腐蚀性强、电导高的特点，这无疑增加了废水处理的难度，但稀氢氟废水具有浊度低、硬度低、废水中成分相对单一的特性。如您有半导体行业废水处理方面的问题，欢迎来电咨询我们三人行环境工程师，给您提供一对一解决方案，希望对您有所帮助。

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